メモリは、極端紫外線(EUV)ベースの15ナノDRAM、V6 NANDなど先端工程の需要対応のため増設と工程転換、P3ラインインフラ投資などを中心に施設投資が行われた。 EUVを含む、次世代技術の適用を先制的に拡大するにつれて、メモリ投資は前年比増加した。
ファウンドリは、ピョンテク(平沢)EUV 5ナノ先端工程増設などを中心に、投資が進められた。ディスプレイは中小型モジュールとQDディスプレイに重点を置いて投資した。
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